• Tystar Logo
  • 系统
  • 组件
  • 服务
    • 客户定制设备
    • 设备升级改造
    • 定期保养
    • 技术支持
  • 获取报价
  • 技术
    • 工艺技术
    • 常压化学气相沉积工艺
    • 低压化学气相沉积工艺
    • 谐振腔
    • 侧向氧化
    • 产品应用+服务
    • 半导体器件制造
    • 光伏电池制造
    • 微机电系统制造
    • 光纤预制棒MCVD
    • 光学器件
    • 碳纳米管
    • 纳米线CVD
  • 公司介绍
    • 关于TYSTAR
    • 为什么选择
    • 新闻
    • 职业发展机会
    • 联系我们
    • English
    • 中文

TYTAN 炉系统

迷你系列

标准系列

光伏系列

纳米系列

桌面系列

定制化学气相沉积系统

光化学气相沉积

改进型化学气相沉积

等离子体增强化学气相沉积

氮化镓系列

碳化硅系列

晶圆传输系统

组件

气体控制器

质量流量校准器

质量流量测试仪

  • 系统
    • 迷你系列
    • 标准系列
    • 光伏系列
    • 纳米系列
    • 桌面系列
    • 光化学气相沉积
    • 改进型化学气相沉积
    • 等离子体增强化学气相沉积
    • 氮化镓系列
    • 碳化硅系列
    • 晶圆传输系统
  • 组件
    • 气体控制器
    • 质量流量校准器
    • 质量流量测试仪
  • 服务
    • 客户定制设备
    • 设备升级改造
    • 定期保养
    • 技术支持
  • 技术
    • 工艺技术
    • 常压化学气相沉积工艺
    • 低压化学气相沉积工艺
    • 谐振腔
    • 侧向氧化
    • 微机电系统制造
    • 光纤预制棒MCVD
    • 光学器件
    • 碳纳米管
    • 纳米线CVD
    • 产品应用+服务
    • 半导体器件制造
    • 光伏电池制造
  • 公司介绍
    • 关于TYSTAR
    • 为什么选择
    • 新闻
    • 职业发展机会
    • 联系我们
  • 获取报价
  • English
  • 中文
Tystar Logo

    技术

  • 工艺技术
  • 常压化学气相沉积工艺
  • 低压化学气相沉积工艺
  • 产品应用+服务
  • 半导体器件制造
  • 光伏电池制造
  • 微机电系统制造
  • 光纤预制棒MCVD
  • 光学器件
  • 碳纳米管
  • 纳米线CVD
获取报价

常压化学气相沉积工艺


TYTAN 炉系统可以用于半导体行业各种常规的常压工艺。工艺可以在1150℃以上使用,要求使用厚壁的石英炉管,碳化硅管衬,碳化硅舟和碳化硅悬臂杆。

  • 超高温氧化炉
  • 氧化硅谐振腔
  • 湿法氧化
  • 带有二氯乙烯清洗的干法氧化
  • 厚膜热氧化
  • 固态源扩散
  • POCL3 或 BBR3 液态源扩散
  • 退火
  • 通过低压化学气相沉积法制备纳米材料

工艺技术

工艺技术

了解更多关于工艺技术

常压化学气相沉积工艺

低压化学气相沉积工艺

了解更多关于低压化学气相沉积工艺

MEMS

MEMS

查看更多微机电系统的信息

联系我们

联系我们

Tystar期待客户反馈

系统

  • 迷你系列
  • 标准系列
  • 光伏系列
  • 纳米系列
  • 桌面系列
  • 光化学气相沉积
  • 改进型化学气相沉积
  • 等离子体增强化学气相沉积
  • 氮化镓系列
  • 碳化硅系列
  • 晶圆传输系统

组件

  • 气体控制器
  • 质量流量校准器
  • 质量流量测试仪

技术

  • 工艺技术
  • 常压化学气相沉积工艺
  • 低压化学气相沉积工艺
  • 微机电系统制造
  • 光纤预制棒MCVD
  • 光学器件
  • 碳纳米管
  • 纳米线CVD
  • 产品应用+服务
  • 半导体器件制造
  • 光伏电池制造

公司介绍

  • 关于TYSTAR
  • 为什么选择
  • 新闻
  • 职业发展机会
  • 联系我们
Tystar Logo

© 2018 Tystar Corporation

Tystar Logo

© 2018 Tystar Corporation