化学计量氮化硅薄膜


  • 典型薄膜厚度: 0.1 - 2 µm
  • 折射率在: 550 nm / 1.98 - 2.0
  • 批产能: 50 (18" 恒温区) 或 100 (34" 恒温区)
  • 沉积速率: 3 - 4.5 nm / MIN
  • 气体: DICHLOROSILANE, AMMONIA
  • 均匀性指标: < 3%
  • 应力: 1000-1250 MPa
  • 沉积气体比: 3:1
  • 沉积温度: 800 - 830 °C 温度梯度



低压化学气相沉积工艺