低压化学气相沉积工艺


LPCVD是指在低于大气压状态下由前驱物沉积薄膜的热工艺。在典型状态下沉积速率取决于表面反应速率,也就是与温度有关。温度能够被精确控制从而得到良好的片内,片间和批间均匀性。Tystar在下列LPCVD工艺中有多年的经验,其专业水平在业界享誉盛名: